文献

J-GLOBAL ID：200902153432649329   整理番号：99A0694440

固体炭素源を用いたDCマグネトロンスパッタリングによる炭化チタン膜の蒸着

Titanium carbide film deposition by DC magnetron reactive sputtering using a solid carbon source.

著者 (5件)： KUSANO E (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  SATOH A (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  KITAGAWA M (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  NANTO H (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  KINBARA A (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 343/344  ページ： 254-256  発行年： 1999年04月 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Tiターゲットエロージョン面積上に固体炭素源としての炭素シー...

シソーラス用語： *炭化チタン ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A0694440&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0899A") }}

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (6件)： 固体 ,  炭素源 ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  炭化 ,  チタン膜 ,  蒸着