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J-GLOBAL ID：200902154705565510   整理番号：02A0681309

光リソグラフィーの新展開 屈折から反射へ 極紫外リソグラフィー用プラズマ光源

Plasma Source for Extreme Ultraviolet Lithography.

著者 (1件)： 富江敏尚 (産業技術総合研)
資料名： 光学  (Japanese Journal of Optics)
巻： 31  号： 7  ページ： 545-552  発行年： 2002年07月10日 
JST資料番号： G0125B  ISSN： 0389-6625  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： EUVリソグラフィー用プラズマ光源について,開発の経緯と現状...

シソーラス用語： 点光源 ,...
準シソーラス用語： プラズマ光源

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分類 (2件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  X線技術  (BA02060D)

引用文献 (22件)：

• 富江敏尚. EUV リソグラフィー用プラズマ光源に関する技術的考察. 産総研技術報告, AIST01-A00007. 2002
• LEE, S. H. Lithographic evaluation of the EUV engineering test stand. SPIE Emerging Lithographic Technologies IV (Santa Clara, 2002). 2002, 4688-32
• SPITZER, R. C. Soft x-ray production from laser plasmas for lithography applications. J. Vac. Sci. Technol. B. 1993, 11, 2986-2989
• TOMIE, T. X-ray lithography using a KrF laser-produced plasma. Proc. SPIE. 1987, 831, 224-229
• BENDER, H. A. Velocity characterization of particulate debris from laser-produced plasmas used for extremeultraviolet lithography. Appl. Opt. 1995, 34, 6513-6521

タイトルに関連する用語 (6件)： 光リソグラフィー ,  展開 ,  屈折 ,  極紫外 ,  リソグラフィー ,  プラズマ光源