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J-GLOBAL ID：200902159303365975   整理番号：02A0147067

ホローカソードプラズマ源によるSiOx成膜

SiOx Thin Film Deposition by Hollow Cathode Plasma Source.

著者 (3件)： 沖本忠雄 (神戸製鋼所) ,  熊切正 (神戸製鋼所) ,  玉垣浩 (神戸製鋼所)
資料名： 電気学会放電研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： ED-01  号： 263-278  ページ： 55-57  発行年： 2001年12月11日 
JST資料番号： Z0911A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 近年,プラスチック膜上に,水や酸素のバリア層として,あるいは...

シソーラス用語： *ホロー陰極放電 ,...

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分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (1件)：

• THEIRICH, D. Surface and Coating Technology. 1996, 86-87, 628-633

タイトルに関連する用語 (3件)： ホローカソード ,  プラズマ源 ,  成膜