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J-GLOBAL ID：200902159570794222   整理番号：01A0793049

多極磁気プラズマ閉込めを用いたrf-dc結合マグネトロンスパッタリングによるNi膜の高速スパッタリング

High rate sputtering for Ni films by an rf-dc coupled magnetron sputtering system with multipolar magnetic plasma confinement.

著者 (7件)： KAWABATA K (Hiroshima Inst. Technol., Hiroshima, JPN) ,  TANAKA T (Hiroshima Inst. Technol., Hiroshima, JPN) ,  KITABATAKE A (Hiroshima Sanyo Vacuum Ind. Co., Ltd., Hiroshima, JPN) ,  YAMADA K (Hiroshima Sanyo Vacuum Ind. Co., Ltd., Hiroshima, JPN) ,  MIKAMI Y (Hiroshima Sanyo Vacuum Ind. Co., Ltd., Hiroshima, JPN) ,  KAJIOKA H (Western Hiroshima Prefecture Industrial Inst. Technol., Hiroshima, JPN) ,  TOIYAMA K (Western Hiroshima Prefecture Industrial Inst. Technol., Hiroshima, JPN)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 19  号： 4,Pt.1  ページ： 1438-1441  発行年： 2001年07月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： チェンバ外側に配置した永久磁石による多極磁気プラズマ閉込め方...

シソーラス用語： *磁場閉込め ,...

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分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (8件)： 多極 ,  磁気 ,  プラズマ閉込め ,  RF ,  DC ,  マグネトロンスパッタリング ,  Ni ,  スパッタリング