文献
J-GLOBAL ID：200902160596238822
整理番号：01A1029679
急速熱処理でアニールした高k誘電体ZrO2膜の特性
Characterization of high-K dielectric ZrO2 films annealed by rapid thermal processing.
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著者 (2件)：
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資料名：
巻：
19
号：
5
ページ：
1706-1714
発行年：
2001年09月
JST資料番号：
E0974A
ISSN：
1071-1023
CODEN：
JVTBD9
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
原著論文
発行国：
アメリカ合衆国 (USA)
言語：
英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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ニ種類のZrO
2膜を作製した。PVDに...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (2件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
酸化物薄膜
, 金属-絶縁体-半導体構造
タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
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