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J-GLOBAL ID:200902160596238822   整理番号:01A1029679

急速熱処理でアニールした高k誘電体ZrO2膜の特性

Characterization of high-K dielectric ZrO2 films annealed by rapid thermal processing.
著者 (2件):
資料名:
巻: 19  号:ページ: 1706-1714  発行年: 2001年09月 
JST資料番号: E0974A  ISSN: 1071-1023  CODEN: JVTBD9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ニ種類のZrO2膜を作製した。PVDに...
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分類 (2件):
分類
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酸化物薄膜  ,  金属-絶縁体-半導体構造 
タイトルに関連する用語 (4件):
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