多孔質アルミナ膜をマスクに用いて作成した100nm周期シリコン反射防止構造

KANAMORI Y; HANE K; SAI H; YUGAMI H

文献

J-GLOBAL ID：200902161812060975 整理番号：01A0300410

多孔質アルミナ膜をマスクに用いて作成した100nm周期シリコン反射防止構造

100nm period silicon antireflection structures fabricated using a porous alumina membrane mask.

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資料名：
巻： 78 号： 2 ページ： 142-143 発行年： 2001年01月08日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

シリコン基板上に100nm周期の反射防止構造を生成するために...

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固体デバイス製造技術一般 , 光物性一般

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