文献

J-GLOBAL ID：200902163068086742   整理番号：01A0747299

光酸及び光塩基発生剤を用いたポリ(ビニルフェノール)とエポキシ単位を持つフルオレン誘導体に基づいた光橋かけ系

Photocrosslinking System Based on Poly(vinyl phenol) and Fluorene Derivatives with Epoxy Unit Using Photoacid and Photobase Generators.

著者 (8件)： OKAMURA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  HARADA C (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  MORISHITA S (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  FUJIKI T (Osaka Gas Co., Osaka, JPN) ,  KAWASAKI S (Osaka Gas Co., Osaka, JPN) ,  YAMADA M (Osaka Gas Co., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 14  号： 2  ページ： 159-162  発行年： 2001年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 橋かけ剤として4,4′-(9-フルオロレニリデン)ビス[フェ...

シソーラス用語： 光塩基発生剤 ,...
準シソーラス用語： *光橋架け ,...

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分類 (2件)： 橋かけ  (YH04100E) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (4件)： トリフェニルスルホニウム ,  メチル(2-ナフチル)ケトンO-フェニルアセチルオキシム ,  9,9-ビス[4-(グリシジルオキシ)フェニル]-9H-フルオレン ,  9,9-ビス[4-[2-(グリシジルオキシ)エトキシ]フェニル]-9H-フルオレン

引用文献 (5件)：

• 1). J. P. Fouassier, J. F. Rabeck, Radiation Curing in Polymer Science and Technology, Elsevier Applied Science, New York (1993).
• 2). M. Shirai, M. Tsunooka, Prog. Polym. Sci., 21 (1995) 1.
• 3). M. Shirai, M. Tsunooka, Bull. Chem. Soc. Jpn., 71 (1998) 2483.
• 4). K. Ito, Y. Shigeru, Y. Kawata, K. Ito, M. Tsunooka, Can. J. Chem., 73 (1995) 1924.
• 5). D. Gagnebien, P. J. Madec, E. Marechal, Eur. Polym. J., 21 (1985) 273.

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸 ,  光塩基発生剤 ,  フルオレン誘導体 ,  光橋かけ