微細シリコンデバイスに要求される各種高性能薄膜

文献

J-GLOBAL ID：200902165157985125 整理番号：00A0160699

Thin film technologies for advanced CMOS ULSIs.

出版者サイト {{ this.onShowPLink() }} 複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=00A0160699&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0160699&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0252A") }}

著者 (2件)： ,
資料名：
巻： 69 号： 1 ページ： 4-14 発行年： 2000年01月10日
JST資料番号： F0252A ISSN： 0369-8009 CODEN： OYBSA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：解説発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

LSI(大規模集積回路)は多数の薄膜の集積により形成される電...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0160699&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0252A") }}

トランジスタ

引用文献 (58件)：

DENNARD, R. IEEE J.SSC. 1974, SC-9, 256
Semiconductor Industory Association. The National Technology Roadmap for Semiconductors
Semiconductor Industory Association. The National Technology Roadmap for Semiconductors
Semiconductor Industory Association. International Technology Roadmap for Semiconductors
Semiconductor Industory Association. International Technology Roadmap for Semiconductors

, , ,

前のページに戻る