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J-GLOBAL ID：200902165961978956   整理番号：99A0975352

自己抑制酸化を利用して作成したSi極細線の評価

著者 (6件)： 堤利幸 (電総研) ,  鈴木英一 (電総研) ,  石井賢一 (電総研) ,  金丸正剛 (電総研) ,  前田辰郎 (電総研) ,  冨沢一隆 (明治大 理工)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 60th  号： 2  ページ： 824  発行年： 1999年09月01日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： 自己 ,  酸化 ,  Si ,  極細線 ,  評価