研究者
J-GLOBAL ID:200901047081760874
更新日: 2024年11月14日
前田 辰郎
マエダ タツロウ | Maeda Tatsurou
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所属機関・部署:
独立行政法人産業技術総合研究所 先端半導体研究センター
独立行政法人産業技術総合研究所 先端半導体研究センター について
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職名:
研究主幹
ホームページURL (1件):
http://www.aist.go.jp/RESEARCHERDB/cgi-bin/worker_detail.cgi?call=namae&rw_id=T03996522
研究分野 (1件):
電子デバイス、電子機器
競争的資金等の研究課題 (8件):
2024 - 2027 真空光トランジスタの創成と超高周波電磁波発生
2023 - 2026 電子・フォノン・光の量子協奏がもたらす通信波長帯IV族半導体レーザー
2023 - 2026 性能バランスを最適設計した異種チャネル3D CFET SRAM
2020 - 2023 自由空間電子走行型光電変換デバイスの創生とテラヘルツ波パルスビームの実現
2017 - 2022 layer transferによる高移動度材料3次元集積CMOSの精密構造制御
2015 - 2019 最高速CPU開発に向けた高品質バルク混晶シリコンゲルマニウム単結晶育成方法の確立
2012 - 2015 III-V族pチャネルMOSFETのための価電子帯エンジニアリングと界面双極子制御
2012 - 2015 次世代高移動度チャネル材料向け全窒化膜ゲートスタック技術の研究
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論文 (138件):
Tatsuro Maeda, Hiroyuki Ishii, Wen Hsin Chang, Shiyu Zhang, Shigehisa Shibayama, Masashi Kurosawa, Osamu Nakatsuka. Layer transfer of epitaxially grown Ge-lattice-matched Si27.8Ge64.2Sn8 films. Materials Science in Semiconductor Processing. 2024
Hiroto Ishii, Wen Hsin Chang, Hiroyuki Ishii, Takashi Koida, Hiroki Fujishiro, Tatsuro Maeda. High-Responsivity Ge Schottky Photodetectors With Short-Wave Infrared Transparent Conductive Oxide Electrodes. IEEE Electron Device Letters. 2023
Tatsuro Maeda, Kazuaki Oishi, Hiroto Ishii, Hiroyuki Ishii, Wen Hsin Chang, Tetsuji Shimizu, Akira Endoh, Hiroki Fujishiro, Takashi Koida. Schottky barrier contact on In
0.53
Ga
0.47
As with short-wave infrared transparent conductive oxide. Applied Physics Letters. 2022. 121. 23. 232102-232102
Tatsuro Maeda, Kazuaki Oishi, Hiroyuki Ishii, Wen Hsin Chang, Tetsuji Shimizu, Tetsuji Shimizu, Akira Endoh, Hiroki Fujishiro, Takashi Koida. Transparent Conductive Oxide (TCO) Gated Ingaas Mosfets for Front-Side Illuminated Short-Wave Infrared Detection. ECS Meeting Abstracts. 2022
Hiroto Ishii, Wen Hsin Chang, Hiroyuki Ishii, Mengnan Ke, Tatsuro Maeda. Surface bonding state of germanium via cyclic dry treatments using plasma of hydrogen iodine and pure oxygen gases. Japanese Journal of Applied Physics. 2022. 61. SD
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MISC (43件):
Yukihiro Imai, Kouta Takahashi, Noriyuki Uchida, Tatsuro Maeda, Osamu Nakatsuka, Shigeaki Zaima, Masashi Kurosawa. Domain size effects on thermoelectric properties of p-type Ge
0.95
Sn
0.05
layers grown on GaAs and Si substrates. 2018 IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference, EDTM 2018 - Proceedings. 2018. 310-312
服部 淳一, 福田 浩一, 入沢 寿史, 太田 裕之, 前田 辰郎. 招待講演 モノリシック三次元インバータにおける積層トランジスタの電気的結合とその層間絶縁膜厚依存性 (シリコン材料・デバイス). 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報. 2017. 116. 450. 23-28
森田 行則, 前田 辰郎, 太田 裕之, 水林 亘, 大内 真一, 昌原 明植, 松川 貴, 遠藤 和彦. Ge立体チャネルトランジスタのための酸素エッチング技術. 半導体・集積回路技術シンポジウム講演論文集 = Proceedings of Symposium on Semiconductors and Integrated Circuits Technology. 2016. 80. 49-52
水野 智久, 前田 辰郎, 多田 哲也. 2014年度神奈川大学総合理学研究所共同研究助成論文 二次元半導体デバイスの研究. Science journal of Kanagawa University. 2015. 26. 33-39
入沢 寿史, 小田 穣, 池田 圭司, 守山 佳彦, 三枝 栄子, JEVASUWAN Wipakorn, 前田 辰郎, 市川 麿, 長田 剛規, 秦 雅彦, et al. 招待講演 MOVPE再成長により形成した(111)B面を有する高移動度三角形状InGaAs-OI nMOSFETs (シリコン材料・デバイス 先端CMOSデバイス・プロセス技術(IEDM特集)). 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報. 2014. 113. 420. 9-12
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特許 (20件):
半導体デバイス
セキュリティ機能を有する回路を含む半導体デバイス
半導体基板、半導体装置および半導体基板の製造方法
複合基板の製造方法および複合基板
電界効果型半導体装置及びその製造方法
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