シリコンのプラズマ酸化とその応用についてのレビュー

TAYLOR S; ZHANG J F; ECCLESTON W

文献

J-GLOBAL ID：200902167142552047 整理番号：93A0725013

シリコンのプラズマ酸化とその応用についてのレビュー

A review of the plasma oxidation of silicon and its applications.

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資料名：
巻： 8 号： 7 ページ： 1426-1433 発行年： 1993年07月
JST資料番号： E0503B ISSN： 0268-1242 CODEN： SSTEET 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：文献レビュー発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

過去28年間,報告された実験系について,相互の比較と特色レビ...

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固体デバイス製造技術一般

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