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J-GLOBAL ID：200902169519496425   整理番号：02A0685918

電流制御式の走査型プローブリソグラフィー

Fabrication of Nanometer-Scale Pattern Using Current-Controlled Scanning Probe Lithography.

著者 (5件)： MIYAZAKI T (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KOBAYASHI K (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  YAMADA H (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  HORIUCHI T (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  MATSUSHIGE K (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 41  号： 7B  ページ： 4948-4951  発行年： 2002年07月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 少数分子の電気特性を測定するためのナノギャップを有する金属ナ...

シソーラス用語： *走査型プローブ顕微鏡 ,...
準シソーラス用語： ナノギャップ

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (14件)：

• 1) D. G. Gordon, M. S. Montemerlo, J. C. Love, G. J. Opiteck and J. C. Ellenbogen: Proc. IEEE 85 (1997) 521.
• 2) F. L. Carter: Molecular Electronic Devices (Marcel Dekker, New York, 1983).
• 3) N. Kramer, H. Brik, J. Jorritsma and C. Schonenberger: Appl. Phys. Lett. 66 (1995) 1325.
• 4) S. Hu, A. Hamidi, S. Altmeyer, T. Koster, B. Spangenberg and H. Kurz: J. Vac. Sci. Technol. B 16 (1998) 2822.
• 5) K. Hironaka, N. Aoki, H. Hori and S. Yamada: Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) 3839.

タイトルに関連する用語 (2件)： 電流制御 ,  走査型