高選択性,高異方性の電荷フリーエッチング用のパルス時間変調型の電子サイクロトロン共鳴プラズマ放電

SAMUKAWA S; OHTAKE H; MIENO T

文献

J-GLOBAL ID：200902169556385374 整理番号：97A0067392

高選択性,高異方性の電荷フリーエッチング用のパルス時間変調型の電子サイクロトロン共鳴プラズマ放電

Pulse-time-modulated electron cyclotron resonance plasma discharge for highly selective, highly anisotropic, and charge-free etching.

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巻： 14 号： 6 ページ： 3049-3058 発行年： 1996年11月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

数10μsのパルスタイミングで変調させたECR-Cl<sub...

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プラズマ応用 , 固体デバイス製造技術一般

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