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J-GLOBAL ID:200902170671362106   整理番号:01A0552178

rfプラズマCVDで作製した窒素ドープ非晶質炭素膜の光学特性と構造特性

Optical and structural properties of nitrogen doped amorphous carbon films grown by rf plasma-enhanced CVD.
著者 (6件):
資料名:
巻: 10  号: 3/7  ページ: 1002-1006  発行年: 2001年03月 
JST資料番号: W0498A  ISSN: 0925-9635  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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半導体薄膜 
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