化学増幅型深紫外レジストにおける溶解特性と酸拡散への高分子構造の影響

ITANI T; YOSHINO H; HASHIMOTO S; YAMANA M; SAMOTO N; KASAMA K

文献

J-GLOBAL ID：200902171986229346 整理番号：98A0217129

化学増幅型深紫外レジストにおける溶解特性と酸拡散への高分子構造の影響

Polymer structure effect on dissolution characteristics and acid diffusion in chemically amplified deep ultraviolet resists.

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資料名：

Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)

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巻： 15 号： 6 ページ： 2541-2544 発行年： 1997年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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