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J-GLOBAL ID：200902172149425974   整理番号：97A0667560

高密度CF₄プラズマのアフタグローにおけるCFおよびCF₂ラジカルの損失プロセス

Loss Processes of CF and CF₂ Radicals in the Afterglow of High-Density CF₄ Plasmas.

著者 (3件)： SUZUKI C (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SASAKI K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  KADOTA K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 36  号： 6B  ページ： L824-L826  発行年： 1997年06月15日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高密度CF₄プラズマのアフタグロー内に...

シソーラス用語： アフターグロー ,...
準シソーラス用語： 四ふっ化炭素

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分類 (1件)： プラズマ診断  (BJ02090L)

引用文献 (11件)：

• 1) S. Samukawa: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 2133
• 2) J. P. Booth, G. Hancock, N. D. Perry and M. J. Toogood: J. Appl. Phys. 66 (1989) 5251
• 3) R. C. Reid, J. M. Prausnitz and T. K. Sherwood: The Properties of Gases and Liquids (McGraw-Hill, New York, 1977) Chap. 11.
• 4) T. Arai, M. Goto, Y. Asoh, D. Takayama and T. Shimizu: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) L1469.
• 5) C. Suzuki and K. Kadota: Appl. Phys. Lett. 67 (1995) 2569

タイトルに関連する用語 (6件)： プラズマ ,  アフタグロー ,  Cf ,  ラジカル ,  損失 ,  プロセス