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J-GLOBAL ID：200902174823884710   整理番号：95A1009214

分子軌道法によるSiO2膜中酸素欠乏性欠陥構造の検討

Investigation of Oxygen-Vacancy in SiO2 Film by using Molecular Orbital Calculation.
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著者 (3件)：
金島岳

金島岳 について

(大阪大 基礎工)

大阪大 基礎工 について

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奥山雅則

奥山雅則 について

(大阪大 基礎工)

大阪大 基礎工 について

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浜川圭弘

浜川圭弘 について

(大阪大 基礎工)

大阪大 基礎工 について


資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)

応用物理学会学術講演会講演予稿集 について


巻： 56th  号： 2  ページ： 706  発行年： 1995年08月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
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タイトルに関連する用語
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分子軌道法

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SiO2

SiO2 について

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酸素欠乏

酸素欠乏 について

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欠陥構造

欠陥構造 について


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