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J-GLOBAL ID：200902175484929285   整理番号：97A0982208

ヘリコンスパッタリング法によるYBCO薄膜の作製と評価

Manufacture and evaluation of YBCO thin film by helicon sputtering technique.
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著者 (3件)：
大須賀彰

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(山形大 工)

山形大 工 について

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楠正暢

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(山形大 工)

山形大 工 について

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大嶋重利

大嶋重利 について

(山形大 工)

山形大 工 について


資料名：
応用物理学会東北支部学術講演会講演予稿集  (応用物理学会東北支部学術講演会論文集)

応用物理学会東北支部学術講演会講演予稿集 について


巻： 51st  ページ： 9-10  発行年： 1996年12月 
JST資料番号： L1473A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
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ヘリコン

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スパッタリング法

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YBCO薄膜

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作製

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評価

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