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J-GLOBAL ID：200902175511284127   整理番号：02A0038625

エピタキシャル薄膜の高速処理構造診断のための同時X線回折計

Concurrent x-ray diffractometer for high throughput structural diagnosis of epitaxial thin films.

著者 (9件)： OHTANI M (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  FUKUMURA T (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KAWASAKI M (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  OMOTE K (Rigaku Corp., Tokyo, JPN) ,  KIKUCHI T (Rigaku Corp., Tokyo, JPN) ,  HARADA J (Rigaku Corp., Tokyo, JPN) ,  OHTOMO A (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  LIPPMAA M (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  KOINUMA H (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 79  号： 22  ページ： 3594-3596  発行年： 2001年11月26日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 基板上に集積したエピタキシャル薄膜の空間分解X線回折(XRD...

シソーラス用語： エピタクシー ,...
準シソーラス用語： スナップショット ,...

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分類 (1件)： X線回折法  (BK01020I)

タイトルに関連する用語 (4件)： エピタキシャル ,  薄膜 ,  診断 ,  X線回折計