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J-GLOBAL ID：200902175711593078   整理番号：03A0593375

高いプロトン伝導性をもつ銅配位高分子の伝導メカニズムに関する研究

著者 (6件)： 長尾祐樹 (筑波大 化) ,  池田龍一 (筑波大 化) ,  久保孝史 (大阪大 大学院) ,  中筋一弘 (大阪大 大学院) ,  神田精一 (徳島大 工) ,  北川宏 (徳島大 工)
資料名： 錯体化学討論会講演要旨集  (Book of Abstracts. Symposium on Coodination Chemistry of Japan)
巻： 52nd  ページ： 314  発行年： 2002年09月01日 
JST資料番号： G0400B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *銅錯体 ,...
準シソーラス用語： ルペアン酸

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分類 (2件)： 第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

物質索引 (1件)： ジチオオキサミド

タイトルに関連する用語 (6件)： プロトン伝導性 ,  銅 ,  配位高分子 ,  伝導 ,  メカニズム ,  研究