高周波マグネトロンスパッタリングにより堆積したSiO<sub>2</sub>膜の機械的性質に及ぼすO<sub>2</sub>ガス分圧の効果

FUJIYAMA H; SUMOMOGI T; ENDO T

文献

J-GLOBAL ID：200902176284075016 整理番号：02A0322513

高周波マグネトロンスパッタリングにより堆積したSiO₂膜の機械的性質に及ぼすO₂ガス分圧の効果

Effect of O₂ gas partial pressure on mechanical properties of SiO₂ films deposited by radio frequency magnetron sputtering.

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巻： 20 号： 2 ページ： 356-361 発行年： 2002年03月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

標記方法で作製したSiO₂膜の機械的性...

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酸化物薄膜 , 固体の機械的性質一般

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高周波マグネトロンスパッタリングにより堆積したSiO2膜の機械的性質に及ぼすO2ガス分圧の効果

高周波マグネトロンスパッタリングにより堆積したSiO₂膜の機械的性質に及ぼすO₂ガス分圧の効果