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J-GLOBAL ID：200902176373895256   整理番号：00A0154884

走査型トンネル顕微鏡により比較したGe(100)表面とGe/Si(100)表面との初期酸素相互作用

Initial Oxygen Interaction between Ge(100) and Ge/Si(100) Surfaces Compared by Scanning Tunneling Microscopy.

著者 (1件)： FUKUDA T (NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 38  号： 12A  ページ： L1450-L1452  発行年： 1999年12月01日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記の二表面に対する酸素相互作用の初期段階を超高真空中で走査...

シソーラス用語： 走査型トンネル顕微鏡 ,...

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分類 (1件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

引用文献 (11件)：

• 1) T. E. Whall and E. H. C. Parker: J. Mater. Sci. 6 (1995) 249.
• 2) T. Fukuda and T. Ogino: Surf. Sci. 357/358 (1996) 748.
• 3) T. Fukuda and T. Ogino: Surf. Sci. 380 (1997) L469.
• 4) M. Udagawa, Y. Umetani, H. Tanaka, M. Ito, T. Uchiyama, Y. Watanabe, T. Yokotsuka and T. Sumita: Ultramicroscopy 42-44 (1992) 946.
• 5) T. Fukuda and T. Ogino: Phys. Rev. B56 (1997) 13190.

タイトルに関連する用語 (6件)： 走査型トンネル顕微鏡 ,  Ge ,  Si ,  初期 ,  酸素 ,  相互作用