文献

J-GLOBAL ID：200902177162374604   整理番号：00A0240135

真空紫外リソグラフィー用の単一層レジストの設計概念

Design Concepts of Single-Layer Resists for Vacuum Ultraviolet Lithography.

著者 (5件)： KISHIMURA S (Matsusita Electronics Corp., Kyoto, JPN) ,  KATSUYAMA A (Matsusita Electronics Corp., Kyoto, JPN) ,  SASAGO M (Matsusita Electronics Corp., Kyoto, JPN) ,  SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38  号： 12B  ページ： 7103-7108  発行年： 1999年12月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記リソグラフィーにおける単一層レジストの使用可能性を調べた...

シソーラス用語： 真空紫外線 ,...
準シソーラス用語： ポリヒドロキシスチレン ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0240135&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

分類 (1件)： 試料技術  (BA02070O)

引用文献 (4件)：

• 1) M. Sasago: J. Photopolym. Sci. Technol. 12 (1999) 585.
• 2) T. M. Bloomstein, M. W. Horn, M. Rothschild, R. R. Kunz, S. T. Palmacci and R. B. Goodman: J. Vac. Sci. Technol. B 15 (1997) 2112.
• 3) T. M. Bloomstein, M. Rothschild, R. R. Kunz, D. E. Hardy, R. B. Goodman and S. T. Palmacci: J. Vac. Sci. Technol. B 16 (1998) 3154.
• 4) J. F. Rabek: Mechanisms of Photophysical Process and Photochemical Reactions in Polymers (John Wiley & Sons, New York, 1987) p. 528.

タイトルに関連する用語 (4件)： リソグラフィー ,  単一層 ,  レジスト ,  設計概念