文献

J-GLOBAL ID：200902178470155030   整理番号：01A0283027

マグネトロン同時スパッタリングにより作製した非晶質三元合金膜a-Si_xC_yGe_z:Hの諸性質

Properties of amorphous ternary alloy films a-Si_xC_yGe_z:H prepared by magnetron co-sputtering.

著者 (5件)： SAITO N (Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu, JPN) ,  NAKAAKI I (Fuji Industrial Res. Inst. Shizuoka Prefecture, Fuji, JPN) ,  NAKAMURA S (Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu, JPN) ,  YOSHIOKA S (Kagawa Univ., Takamatsu, JPN) ,  YAMAGUCHI T (Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 169/170  ページ： 472-475  発行年： 2001年01月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非晶質Si_xC_y...

シソーラス用語： 炭化ケイ素 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=01A0283027&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0707B") }}

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  光伝導,光起電力  (BM03050J)

タイトルに関連する用語 (6件)： マグネトロン ,  同時スパッタリング ,  作製 ,  非晶質 ,  三元合金 ,  性質