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J-GLOBAL ID：200902184750871963   整理番号：99A0948308

ダイヤモンドの化学気相蒸着プロセス中のPt層を用いる埋め込みダイヤモンド層へのOhm接触の作製

Fabrication of ohmic contacts to buried diamond layers using Pt layer in the diamond chemical-vapor-deposition process.

著者 (2件)： WANG C (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  ITO T (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 75  号： 13  ページ： 1920-1922  発行年： 1999年09月27日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 埋め込み化学蒸着ダイヤモンド層への電気的接触を,Pt柱が埋め...

シソーラス用語： *ダイヤモンド ,...

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分類 (1件)： 半導体-金属接触  (BM03084G)

タイトルに関連する用語 (9件)： ダイヤモンド ,  化学 ,  気相蒸着 ,  プロセス ,  Pt ,  埋め込み ,  ダイヤモンド層 ,  Ohm接触 ,  作製