文献

J-GLOBAL ID：200902186449851933   整理番号：97A0632271

極性変化ユニットを有する重合体系を用いるArF表面修飾レジスト法

ArF Surface Modification Resist Process using Polymer System with Polarity Change Unit.

著者 (4件)： MATSUO T (Matsushita Electrnic Ind. Co., Ltd., Osaka, JPN) ,  ENDO M (Matsushita Electrnic Ind. Co., Ltd., Osaka, JPN) ,  SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 10  号： 4  ページ： 595-601  発行年： 1997年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学蒸着を用いて露光レジスト表面にポリシロキサンを生成させる...

シソーラス用語： レーザリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： 表面イメージング ,...

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分類 (2件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (8件)：

• 1) K. Maeda, T. Ohfuji, N. Aizaki and E. Hasegawa, Proc. SPIE, 2438, (1995) 465.
• 2) S. C. Palmateer, R. R. Kunz, M. W. Horn, A. R. Forte and M. Rothschild, Proc. SPIE, 2438, (1995) 455.
• 3) M. Shirai, M. Hayashi and M. Tsunooka, Macromolecules, 25, (1992) 195.
• 4) T. Matsuo, K. Yamashita, M. Endo, M. Sasago, N. Nomura, M. Shirai and M. Tsunooka, Proceedings of the Symposium on VLSI Technology Digests of Technical Papers, (1994) p. 91.
• 5) T. Matsuo, M. Endo, M. Shirai and M. Tsunooka, J. Vac. Sci. Technol., B14 (6), (1996) 4212.

タイトルに関連する用語 (5件)： 極性 ,  重合体 ,  ARF ,  表面修飾 ,  レジスト