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J-GLOBAL ID：200902187923948605   整理番号：01A0931046

6DOF・Eビーム(電子ビーム)リソグラフィー・ステージのための制御設計

Control Design for a 6 DOF E-beam Lithography Stage.

著者 (3件)： YANG P-H (Nikon Res. Corp. America, CA) ,  ALAMO B (Ultratech Stepper Inc., CA) ,  ANDEEN G B (Ion Diagnostics Inc., CA)
資料名： Proceedings of the American Control Conference  (Proceedings of the American Control Conference)
巻： 2001  号： Vol.3  ページ： 2255-2260  発行年： 2001年 
JST資料番号： B0982A  ISSN： 0743-1619  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多重電子ビームを用いたリソグラフィー及びインライン・ウエハ検...

シソーラス用語： *電子ビームリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： 反復学習

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 6DOF ,  ビーム ,  電子ビーム ,  リソグラフィー ,  ステージ ,  制御設計