堆積性のプラズマプロセシングにおける壁面制御のための交互イオン照射法

NAKAMURA K; OHWAKI M; YONEDA S; SUGAI H

文献

J-GLOBAL ID：200902189085350550 整理番号：00A0195949

堆積性のプラズマプロセシングにおける壁面制御のための交互イオン照射法

Alternating ion bombardment technique for wall surface control in depositive plasma processing.

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資料名：
巻： 18 号： 1 ページ： 137-142 発行年： 2000年01月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

SiO₂エッチングのプロセス再現性を改...

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プラズマ応用 , 固体デバイス製造技術一般

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