文献
J-GLOBAL ID:200902189090125548   整理番号:01A0575118

原料ガス分離分解型プラズマCVD法により作製したa-SiC:H膜の光学的特性

Optical Properties of a-SiC:H Films Prepared by Plasma CVD Method Dissociating Source Gases Separately.
著者 (2件):
資料名:
巻: J84-C  号:ページ: 508-515  発行年: 2001年06月01日 
JST資料番号: S0623C  ISSN: 1345-2827  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
グロー放電法により作製する水素化アモルファス炭化シリコン(a...
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
,...
   続きはJDreamIII(有料)にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=01A0575118&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=S0623C") }}
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス材料 

前のページに戻る