文献

J-GLOBAL ID：200902173841198399   整理番号：97A0035822

a-Si_1-xC_x:H膜における光学的および電気的特性の熱処理依存性

Dependence of Optical and Electrical Properties of a-Si_1-xC_x:H Films on Thermal Annealing.

著者 (3件)： 大久保努 (東京電機大 工) ,  本橋光也 (東京電機大 工) ,  本間和明 (東京電機大 工)
資料名： 電子情報通信学会論文誌 C-2  (Transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. C-2)
巻： 79  号： 11  ページ： 682-690  発行年： 1996年11月 
JST資料番号： L0196A  ISSN： 0915-1907  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： グロー放電法によって作製したa-Si<sub>1-x</su...

シソーラス用語： 非晶質半導体 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=97A0035822&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L0196A") }}

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

引用文献 (16件)：

• HAMAKAWA, Y. JARECT 16 Amorphous Semiconductor Teconologies and Devices. 1984, 200-205
• LAU, S. P. a-SiC:H thin film visible lightemitting diodes with highly conductive wide band gap a-SiC: H as the carrier injection layers. J. Non-Cryst. Solids. 1993, 164-166, 813-816
• NAKAYAMA, Y. Two-way photocurrent multiplication in amorphous silicon carbide cells. J. Non-Cryst. Solids. 1991, 137&138, 1279-1282
• BAKER, S. H. Electronec and optical properties of a-Si_<1-x>C_x : H films prepared form a H_2-diluted mixture of SiH_4 and CH_4. Phil. Mag. B. 1990, 62, 213-223
• SOTIROPOULOS, J. Optical properties and structure of Si_<1-x>C_x : H alloys. J. Non-Cryst. Solids. 1987, 92, 95-106

タイトルに関連する用語 (4件)： 光学 ,  電気的特性 ,  熱処理 ,  依存性