研究者
J-GLOBAL ID:200901075392926958   更新日: 2022年08月27日

本間 和明

ホンマ カズアキ | Homma Kazuaki
所属機関・部署:
職名: 教授
研究分野 (4件): 電気電子材料工学 ,  薄膜、表面界面物性 ,  結晶工学 ,  応用物性
研究キーワード (8件): 高温超伝導体薄膜 ,  ナノポーラスSi ,  金属シリサイド ,  アモルファスSi薄膜 ,  High Tc Superconducting Films ,  Nano Porous Si ,  Metal Silicide ,  Amorphous Si Films
競争的資金等の研究課題 (8件):
  • 高温超伝導薄膜の成長プロセスと物性
  • ナノポーラスSi層の作製と微細構造
  • 金属/a-Si :H積層膜における界面反応と金属シリサイドの形成機構
  • シリコン系アモルファス半導体薄膜の構造的研究
  • Growth Process and Properties of High Temperature Super-conducting Films.
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MISC (66件):
特許 (4件):
  • 高光導電率アモルファスシリコン薄膜の製造方法
  • 感温半導体素子
  • Preparation Method of Highly Photoconductive Amorphous Silicon Film
  • Semiconductor Temperature Sensor
学歴 (4件):
  • - 1966 東京電機大学 工学研究科 電気工学
  • - 1966 東京電機大学
  • - 1960 東京電機大学 工学部 電気工学
  • - 1960 東京電機大学
学位 (2件):
  • 工学博士 (東京電機大学)
  • 工学修士 (東京電機大学)
経歴 (2件):
  • 1980 - 東京電機大学工学部教授、現在に至る
  • 1980 - Since 1980, Professor, School of Engineering, Tokyo Denki University
受賞 (1件):
  • 1994 - (社)プリント回路学会論文賞
所属学会 (4件):
エネルギ-資源学会 ,  応用物理学会 ,  電子情報通信学会 ,  電気学会
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