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J-GLOBAL ID：200902189542197762   整理番号：97A0850939

193nmリソグラフィーのための化学的増幅型レジストの酸性増幅

Acid amplification of chemically amplified resists for 193nm lithography.

著者 (7件)： OHFUJI T (ASET, Kanagawa, JPN) ,  TAKAHASHI M (ASET, Kanagawa, JPN) ,  KUHARA K (ASET, Kanagawa, JPN) ,  OGAWA T (ASET, Kanagawa, JPN) ,  OHTSUKA H (ASET, Kanagawa, JPN) ,  SASAGO M (ASET, Kanagawa, JPN) ,  ICHIMURA K (Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 3049  ページ： 76-82  発行年： 1997年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： リソグラフィー ,  化学 ,  増幅 ,  レジスト ,  酸性