パルスレーザ蒸着によるSiと非晶質基板上の酸化亜鉛薄膜における初期の選択成長

文献

J-GLOBAL ID：200902190207610513 整理番号：01A0714086

Initial preferred growth in zinc oxide thin films on Si and amorphous substrates by a pulsed laser deposition.

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巻： 226 号： 4 ページ： 493-500 発行年： 2001年08月
JST資料番号： B0942A ISSN： 0022-0248 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

パルスレーザ蒸着によってSi(001),Si(111),ガラ...

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酸化物薄膜

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