LPCVD of Al2O3 layers using a hot-wall reactor.

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J-GLOBAL ID：200902190657208162 整理番号：93A0936795

LPCVD of Al₂O₃ layers using a hot-wall reactor.

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著者 (3件)：

LABATUT C

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(Inst. Science et de Ge ́nie des Mate ́riaux et Proce ́de ́s, CNRS, Font Romeu, FRA)

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COMBESCURE C

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ARMAS B

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資料名：

Journal de Physique. 4. Proceedings (Journal de Physique. 4. Proceedings)

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巻： 3 号： C3 ページ： 589-596 発行年： 1993年08月
JST資料番号： A0743C ISSN： 1155-4339 資料種別：会議録 (C)
発行国：フランス (FRA) 言語：英語 (EN)

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