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J-GLOBAL ID：200902193029887556   整理番号：99A0694458

Na₂Seを加えたCuInSe₂ターゲットのRFスパッタリングにより作製した膜の性質に対する基板温度の効果

Effect of substrate temperature on properties of thin films prepared by RF sputtering from CuInSe₂ target with Na₂Se.

著者 (4件)： TANAKA T (Toyohashi Univ. Technol., Toyohashi, JPN) ,  YAMAGUCHI T (Wakayama Coll. Technol., Gobo, JPN) ,  WAKAHARA A (Toyohashi Univ. Technol., Toyohashi, JPN) ,  YOSHIDA A (Toyohashi Univ. Technol., Toyohashi, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 343/344  ページ： 320-323  発行年： 1999年04月 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Naを混合したCuInSe₂ターゲット...

シソーラス用語： *セレン化インジウム銅 ,...
準シソーラス用語： EPMA【表面分析】

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (5件)： ターゲット ,  RFスパッタリング ,  作製 ,  性質 ,  基板温度