文献

J-GLOBAL ID：200902193088356408   整理番号：00A0221974

電子シャワーによるFeN_x及びFe/FeN_x多層膜の低温作製

Low-Temperature Preparation of FeN_x and Fe/FeN_x Multilayer by Electron Shower.

著者 (4件)： YUMOTO H (Sci. Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  SUZUKI M (Sci. Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  LI S J (Sci. Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  TSUCHIYA T (Sci. Univ. Tokyo, Chiba, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39  号： 1  ページ： 207-211  発行年： 2000年01月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子シャワー法により,基板バイアス(>-100V)を印可して...

シソーラス用語： 多層膜 ,...
準シソーラス用語： シャワー

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0221974&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (7件)：

• 1) N. Heiman and N. S. Kazama: J. Appl. Phys. 52 (1981) 3562.
• 2) M. Kume, T. Tsujioka, K. Matsuura, Y. Abe and A. Tasaki: IEEE Trans. Mag. 23 (1987) 3633.
• 3) K. Umeda, Y. Kawashimo, M. Nakasone, S. Harada and A. Tasaka: Jpn. J. Appl. Phys. 23 (1984) 1576.
• 4) H. Ono, M. Fujinaga, T. Yonemoto, T. Miyagawa and Y. Kitano: J. Magn. & Magn. Mater. <B>118</B> (1993) 352.
• 5) F. Pierre, P. Boher, P. Houdy, F. W. A. Dirne and H. J. de Wit: J. Magn. & Magn. Mater. <B>93</B> (1991) 131.

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子 ,  シャワー ,  Fe ,  多層膜 ,  低温 ,  作製