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J-GLOBAL ID：200902195985911921   整理番号：98A0052995

三ふっ化塩素を用いたシリコンのテクスチャ化と光学的評価

Texturization of Si Surface with ClF₃ Gas.

著者 (3件)： 門馬正 (成けい大 工) ,  石崎芳宜 (成けい大 工) ,  斎藤洋司 (成けい大 工)
資料名： 電子情報通信学会論文誌 C-2  (Transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. C-2)
巻： J80-C-2  号： 11  ページ： 412-413  発行年： 1997年11月 
JST資料番号： L0196A  ISSN： 0915-1907  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Si太陽電池において表面反射損を低減するテクスチャ化を三ふっ...

シソーラス用語： *太陽電池 ,...

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分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

引用文献 (3件)：

• RESTREPO, F. On black solar cells or the tetrahedral texturing of a silicon surface. IEEE Trans. Electron Devices. 1976, ED-23, 10, 1195-1197
• KING, D. L. Experimental optimization of an anisotropic etching process for random texturization of silicon solar cells. Proc. 22nd IEEE Photovoltaic Specialists Conference. 1991, 1, 303-308
• SAITO, Y. Plasmaless etching of silicon using chlorine trifluoride. J. Vacuum Science & Technology B. 1991, 9, 5, 2503-2506

タイトルに関連する用語 (4件)： ふっ化塩素 ,  シリコン ,  テクスチャ ,  光学的評価