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J-GLOBAL ID：200902196224008264   整理番号：01A1036248

ULSI用の極微細銅細線導体における抵抗率増加

Resistivity Increase in Ultrafine-Line Copper Conductor for ULSIs.

著者 (4件)： HINODE K (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN) ,  HANAOKA Y (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN) ,  TAKEDA K (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN) ,  KONDO S (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 40  号： 10B  ページ： L1097-L1099  発行年： 2001年10月15日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Matthiessen則に基づく新しい方法を利用して,Cu微...

シソーラス用語： 超LSI ,...
準シソーラス用語： 平均自由行路

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分類 (1件)： 金属結晶の電子伝導  (BM03033M)

引用文献 (8件)：

• 1) E. H. Sondheimer: Phys. Rev. 80 (1950) 401.
• 2) T. J. Coutts and G. G. Mathews: Proc. Phys. Soc. 90 (1967) 3144.
• 3) H.-D. Liu, Y.-P. Zhao, G. Ramanath, S. P. Murarka and G.-C. Wang: Thin Solid Films 384 (2001) 151.
• 4) T. S. Kuan, C. K. Itoki, G. S. Oehrlein, K. Rose, Y.-P. Zhao, G.-C. Wang, S. M. Rossnagel and C. Cabral: Mater. Res. Soc. Symp. Proc. (Material Research Society, Warrendale, 2000) Vol. 612, D7.1.
• 5) M. S. P. Lucas: J. Appl. Phys. 36 (1965) 1632.

タイトルに関連する用語 (7件)： ULSI ,  極 ,  微細 ,  銅 ,  細線 ,  導体 ,  抵抗率