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J-GLOBAL ID：200902197302632596   整理番号：93A0664118

低温熱処理におけるHf/Si界面の結晶学的構造

Crystallographic structures of Hf/Si interfaces in low annealing temperature.

著者 (4件)： 若井伸之 (名古屋大 工) ,  財満鎮明 (名古屋大 工) ,  小出康夫 (名古屋大 工) ,  安田幸夫 (名古屋大 工)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 40th  号： Pt 2  ページ： 670  発行年： 1993年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： 低温熱処理 ,  HF ,  Si ,  界面 ,  結晶学