レジストとして非晶質シリコンを用いた原子間力顕微鏡リソグラフィーおよび平行操作における進歩

MINNE S C; FLUECKIGER P; SOH H T; QUATE C F

文献

J-GLOBAL ID：200902197341623014 整理番号：95A0654828

レジストとして非晶質シリコンを用いた原子間力顕微鏡リソグラフィーおよび平行操作における進歩

Atomic force microscope lithography using amorphous silicon as a resist and advances in parallel operation.

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巻： 13 号： 3 ページ： 1380-1385 発行年： 1995年05月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

原子間力顕微鏡を用いてSiの電界増速局在酸化によって単結晶S...

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電子顕微鏡,イオン顕微鏡 , 固体デバイス製造技術一般

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