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J-GLOBAL ID:200902201753390062   整理番号:03A0506384

ライン-エッジ粗さ:特性評価と材料の原因

Line-Edge Roughness: Characterization and Material Origin
著者 (4件):
資料名:
巻: 42  号: 6B  ページ: 3755-3762  発行年: 2003年06月30日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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ライン-エッジ粗さ(LER)は,パターンサイズ縮小とともにナ...
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準シソーラス用語:
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分類 (1件):
分類
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固体デバイス製造技術一般 
引用文献 (37件):
  • 1) T. Yoshimura, H. Shiraishi, J. Yamamoto and S. Okazaki: Appl. Phys. Lett. 63 (1993) 764.
  • 2) M. Nagase, H. Namatsu, K. Kurihara, K. Iwadate, K. Murase and T. Makino: Microelectron. Eng. 30 (1996) 419.
  • 3) G. W. Reynolds and J. W. Taylor: J. Vac. Sci. Technol. B17 (1999) 2823.
  • 4) C. Nelson, S. C. Palmateer, A. R. Forte and T. Lyszczarz: J. Vac. Sci. Technol. B17 (1999) 2488.
  • 5) N. Rau, F. Stratton, C. Fields, T. Ogawa, A. Neureuther, R. Kubena and C. G. Willson: J. Vac. Sci. Technol. B16 (1998) 3784.
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タイトルに関連する用語 (4件):
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