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J-GLOBAL ID：200902203327562380   整理番号：04A0196479

分割型マイクロ波と結合した電子サイクロトロン共鳴プラズマ源によって蒸着したX線リソグラフィーマスク用タンタル膜

Tantalum film for x-ray lithography mask deposited by electron cyclotron resonance plasma source coupled with divided microwaves

著者 (4件)： NISHIMURA H (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  ONO T (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  ODA M (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  MATSUO S (NTT Corp., Kanagawa, JPN)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 22  号： 1  ページ： 40-45  発行年： 2004年01月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 分割型マイクロ波源と結合した先進電子サイクロトロン共鳴(EC...

シソーラス用語： *X線リソグラフィー ,...
準シソーラス用語： ECRスパッタリング

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分類 (3件)： X線技術  (BA02060D) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： マイクロ波 ,  電子サイクロトロン共鳴プラズマ ,  蒸着 ,  X線リソグラフィー ,  マスク ,  タンタル膜