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J-GLOBAL ID:200902203403810592   整理番号:09A0248322

二段階堆積とポストアニーリング技術の組み合わせで製膜したCuScO2エピタキシャル膜の光学的電気的特性

Optical and electrical properties of CuScO2 epitaxial films prepared by combining two-step deposition and post-annealing techniques
著者 (7件):
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巻: 311  号:ページ: 1117-1122  発行年: 2009年02月01日 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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数百ナノメーター厚さのCuScO<sub>2</sub>エピタキシャル膜を,二段階堆積とポストアニーリング技術の組み合わせで,α面サファイア基板上への成長に成功した。膜は菱面体晶をもった単一相であり,底面では位数6の回転対称を示し,膜は双晶のドメイン構造を有していた。基板を考慮した膜の配向相関は,CuScO<sub>2</sub>[3R](0001)//サファイア(11<span style=text-decoration:overline>-2</span>0)と,CuScO<sub>2</sub>[3R](11<span style=text-decoration:overline>-2</span>0)//サファイア(0001)であった。膜の平均的な光透過率は,可視近赤外領域で60%以上と高く,直接許容遷移型エネルギーギャップは,3.7eVであると評価した。膜のp型伝導は,Hall測定によって確認した。室温での膜の電気伝導度,キャリア濃度,Hall移動度および,Seebeck係数は,それぞれ,1.0×10<sup>-3</sup>Scm<sup>-1</sup>,4.5×10<sup>16</sup>cm<sup>-3</sup>,1.4×10<sup>-1</sup>cm<sup>2</sup>V<sup>-1</sup>s<sup>-1</sup>および,+968μVK<sup>-1</sup>であった。キャリア濃度の温度依存性から評価した活性化エネルギーは,0.62eVであった。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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その他の無機化合物の電気伝導 

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