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J-GLOBAL ID：200902203588732002   整理番号：05A0155171

低損傷スパッタリングのための金属クラスタ錯体イオンビームの応用

Application of metal cluster complex ion beam for low damage sputtering

著者 (5件)： FUJIMOTO T (AIST, Ibaraki, JPN) ,  MIZOTA T (AIST, Ibaraki, JPN) ,  NONAKA H (AIST, Ibaraki, JPN) ,  KUROKAWA A (AIST, Ibaraki, JPN) ,  ICHIMURA S (AIST, Ibaraki, JPN)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 37  号： 2  ページ： 164-166  発行年： 2005年02月 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： コロイド金属クラスタを含む金属クラスタ錯体を適用して低損傷ス...

シソーラス用語： *エレクトロスプレイイオン化 ,...

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分類 (3件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  白金族元素の錯体  (CE01100E) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 損傷 ,  スパッタリング ,  クラスタ錯体 ,  イオンビーム ,  応用