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J-GLOBAL ID:200902203728178795   整理番号:08A0415723

透明非晶質酸化物半導体の電子輸送特性を制御する因子

Factors controlling electron transport properties in transparent amorphous oxide semiconductors
著者 (9件):
資料名:
巻: 354  号: 19-25  ページ: 2796-2800  発行年: 2008年05月01日 
JST資料番号: D0642A  ISSN: 0022-3093  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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透明非晶質酸化物半導体の電子輸送特性に影響する主要因子として金属カチオン種と後焼なまし温度を取出した。非晶質In-Ga-Zn-O(a-IGZO)薄膜を例に,堆積条件と焼なましの影響を調べた。最適化及び非最適化条件で堆積させた二種類のa-In-GZO膜をパルスレーザ蒸着のレーザパルスエネルギーを変えて作製した。非最適化条件で堆積させたままの膜の電子輸送特性は焼なましにより最適化条件で堆積させた膜のそれとほぼ同じであった。改善に効果のある温度範囲は≧300°Cで,結晶化開始温度(約500°C)よりもかなり低かった。構成金属カチオンの効果を広げるために,a-Sn-Ga-Zn-O(a-SGZO)膜及びそのTFTの輸送特性をa-IGZOのものと比べた。a-IGZOとa-SGZOのTFT性能を比較して,意図的焼なましをせずに素子を作製した場合,Inに基づく系の方が性能が遥かに良いことを明らかにした。堆積させたままのa-SGZO薄膜では遥かに強い吸収尾を認め,これは低価電子状態Sn2+の形成を意味し,伝導バンド最低付近にある関連欠陥状態はTFT性能を低下させた。Copyright 2008 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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半導体薄膜 
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