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J-GLOBAL ID：200902204847798862   整理番号：08A0142122

自己集合単分子層ベース表面中性化により作製したジブロック共重合体ナノテンプレートを利用したハイブリッドナノ作製プロセス

Hybrid nanofabrication processes utilizing diblock copolymer nanotemplate prepared by self-assembled monolayer based surface neutralization

著者 (7件)： KIM Su-jin (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Pohang Univ. of Sci. and Technol. (POSTECH), Pohang 790-784, KOR) ,  MAENG W. J. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Pohang Univ. of Sci. and Technol. (POSTECH), Pohang 790-784, KOR) ,  LEE S. K. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Pohang Univ. of Sci. and Technol. (POSTECH), Pohang 790-784, KOR) ,  PARK D. H. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Pohang Univ. of Sci. and Technol. (POSTECH), Pohang 790-784, KOR) ,  BANG Sung Hwan (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Pohang Univ. of Sci. and Technol. (POSTECH), Pohang 790-784, KOR) ,  KIM Hyungjun (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Pohang Univ. of Sci. and Technol. (POSTECH), Pohang 790-784, KOR) ,  SOHN Byeong-hyeok (Dep. of Chemistry, Seoul National Univ., Seoul 151-742, KOR)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 26  号： 1  ページ： 189  発行年： 2008年01月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ孔及び金属ドットアレイを含むナノ構造を,自己集合ジブロック共重合体及び従来の半導体プロセスを組み合わせたハイブリッドプロセスにより作製した。ポリスチレン-b-ポリメタクリル酸メチル(PS-b-PMMA)ジブロック共重合体と基板との間の界面エネルギーを,自己集合単分子層(SAM)を使用することにより制御し,充分に規則化した円筒状ナノ孔アレイを有する高分子テンプレートを得た。ナノ孔サイズを,異なる分子量のジブロック共重合体を用いて,直径10~22nm以内に制御した。PSナノテンプレートを,酸化物,窒化物,及びポリSiを含めて,各種基板上に作製した。ナノ孔パターンをドライエッチングプロセスにより転写し,無機ナノ孔テンプレートを生成した。さらに,10nm以下の直径の金ナノドットアレイをリフトオフプロセスを通して作製した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ナノ構造 ,  *細孔 ,  金属 ,  *ジブロック共重合体 ,  半導体プロセス ,  ポリスチレン ,  ポリメタクリル酸メチル ,  ドライエッチング ,  パターン転写 ,  細孔構造
準シソーラス用語： *テンプレート【型】 ,  *ナノパターン形成 ,  リフトオフ ,  界面エネルギー ,  *自己集合単分子層 ,  ナノ孔

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 自己集合単分子層 ,  中性化 ,  作製 ,  ジブロック共重合体 ,  ナノテンプレート ,  プロセス