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J-GLOBAL ID：200902207266303713   整理番号：05A1021564

基板励振による薄膜の残留応力制御の機構

Mechanism of Residual Stress Control in Thin Films by Means of Substrate Vibration

著者 (3件)： 鈴木崇雅 (名古屋大 大学院) ,  松室昭仁 (名古屋大 大学院) ,  高橋裕 (三重大)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 71  号： 4  ページ： 460-465  発行年： 2005年04月05日 
JST資料番号： F0268A  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 薄膜形成における残留応力制御は重要な問題である。前報では,成...

シソーラス用語： 基板 ,...
準シソーラス用語： 窒化チタン

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分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (15件)：

• ESPINOZA-BELTRAN, F. J. Effect of the substrate bias potential on crystalline grain size, intrinsic stress and hardness of vacuum arc evaporated TiN/c-Si coatings. Thin Solid Films. 2003, 437, 1-2, 170
• MISRA, A. Effect of ion irradiation on the residual stress in Cr thin films. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 7, 891
• MISRA, A. Residual stress and ion implantation effects in Cr thin films. Nucl. Instr. and Meth. 1999, 148, 1-4, 211
• 松室昭二. 基板励振による薄膜の残留応力制御法の開発. 精密工学会誌. 2004, 70, 4, 533
• 高橋研. 弾性表面波で励振された基板上への薄膜の作製とその磁性. 日本応用磁気学会誌. 1990, 14, 2, 323

タイトルに関連する用語 (3件)： 励振 ,  薄膜 ,  残留