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J-GLOBAL ID：200902208100731438   整理番号：07A1014714

シリコン基板に直接結合したπ共役系分子の形成

著者 (6件)： 板橋敦 (北陸先端科学技術大学院大) ,  中山智裕 (北陸先端科学技術大学院大) ,  新井豊子 (金沢大) ,  新井豊子 (JST-SORST) ,  富取正彦 (北陸先端科学技術大学院大) ,  村田英幸 (北陸先端科学技術大学院大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 68th  号： 3  ページ： 1220  発行年： 2007年09月04日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,...
準シソーラス用語： *シリコン基板

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分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (3件)： シリコン基板 ,  π共役 ,  分子