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J-GLOBAL ID：200902209769830942   整理番号：08A0340934

ナノインプリント 現代における古い話?概観

Nanoimprint lithography: An old story in modern times? A review

著者 (1件)： SCHIFT Helmut (Lab. for Micro- and Nanotechnology, Paul Scherrer Inst., 5232 Villigen PSI, CHE)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 26  号： 2  ページ： 458  発行年： 2008年03月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノインプリントリソグラフィー(NIL)は,スタンプの表面パターンを,機械的接触及び三次元材料変位により,ある材料に複製する高スループット,高分解能平行パターン形成方法である。これは,硬化のための硬化プロセスを伴う液体の成形,加熱と冷却による膜の熱機械的特性の変化,あるいは型と成形可能材料の硬度差を利用した他の種類の成形プロセスにより行うことができる。得られる薄い型膜の局所的な厚さのコントラストを,標準パターン移動方法によりウエハレベルで下の基板をパターン形成する手段としてだけでなく,バルク改質機能層が必要な応用にも使用できる。したがって,電子ビーム及び高性能フォトリソグラフィーが高価で,妥当なスループットでは十分な分解能を与えないような分野へ,この方法は主に狙いを定めている。この概観の目的は,二極,すなわち,研究及び工業用の標準プロセス及びツールを確立する必要性と,NILを科学的な営みにするという問題,の間で役割を演じることである。すでに発表されたレビューの内容を繰り返すのは著者の意図ではなく,NILプロセスを全体として見ることがその目的である。さらに,他のレビューではカバーされていない問題も扱った。例えば,NILの起源や誤認識,これらはNILの問題についての議論を時々支配したし,しばしば忘れられ,見過ごされた問題へ読者を導くであろう。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 押付成形 ,  *リソグラフィー ,  *パターン転写 ,  *パターン形成 ,  硬化 ,  スループット ,  微小硬さ ,  成形性 ,  レビュー ,  ナノメータ加工 ,  光架橋 ,  熱可塑性プラスチック ,  レジスト ,  *紫外線照射
準シソーラス用語： *ナノインプリントリソグラフィー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (1件)： ナノインプリント