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J-GLOBAL ID：200902210128879737   整理番号：08A1120210

プラズマイオン注入によるダイヤモンドライクカーボン膜の残留応力と成膜速度の制御

Control of Residual Stress and Deposition Rate of DLC Film by Plasma-Based Ion Implantation

著者 (3件)： 切貫理治 (兵庫県大 大学院工学研究科) ,  岡好浩 (兵庫県大 大学院工学研究科) ,  八束充保 (兵庫県大 大学院工学研究科)
資料名： プラズマ応用科学  (Applied Plasma Science)
巻： 14  ページ： 121-128  発行年： 2006年12月 
JST資料番号： L4460A  ISSN： 1340-3214  CODEN： POKAFE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： イオン注入とプラズマCVDを組み合わせたプラズマイオン注入法(PBIID)では,ダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜成膜中に膜内部の残留応力が緩和される。DLC薄膜の残留応力はイオン注入電圧が約-500Vのときに最大となり,電圧の増加とともに減少する。トルエンを原料とする場合は,注入電圧が数kVで残留応力はほぼ消失する。イオン注入をしないと,初期プラズマ生成RFパルスの幅と繰返しの増加とともに残留応力は増加する。イオン注入すると,残留応力はこれらの条件には依存しない。トルエンの場合の成膜速度はアセチレンの約7倍である。

シソーラス用語： *イオン注入 ,  *プラズマCVD ,  残留応力 ,  *薄膜成長 ,  ダイヤモンド状炭素
準シソーラス用語： プラズマイオン注入 ,  成膜速度

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

引用文献 (24件)：

• D. R. McKenzie, D. Muller and B. A. Pailthorpe: “Compressive-stress-induced formation of thirr-film tetrahedral amorphous carbon”, Phys. Rev. Lett., 67, 773(1991).
• P. J. Fallon, V. S. Veerasamy, C. A. Davis, J. Robertson, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne and J. Koskinen: “Properties of filtered-ion beam-deposited diamondlike carbon as a functon of ion energy”, Phys. Rev. B, 48, 4777(1993).
• K. Taube, M. Grischke, and K. Bewilogua: “Improvement of carbon-based coatings for use in the cold forming of nonferrous metals”, Surf Coat. Technol., 68-69, 662(1994).
• M. D. Bentzon, K. Mogensen, J. Bindslev Hansen, C. Barholm-Hansen, C. Traholt, P. Holiday, and S. S Eskildsen: “Metallic interlayers between steel and diamond-like carbon”, Surf Coat. Techmol., 68-69, 651(1994).
• J. Deng and M. Braun: “DLC multilayer coatings for wear protection”, Diam. Relat. Mater., 4, 936(1995).

タイトルに関連する用語 (4件)： プラズマイオン注入 ,  ダイヤモンドライクカーボン ,  残留応力 ,  成膜速度